真空碳管爐適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗和生產(chǎn)設備。
一、真空碳管爐的技術(shù)參數
1.設備名稱(chēng)：真空感應熔煉爐
2.冷態(tài)極限真空度：5×10﹣3Pa
3.額定溫度：1700℃
4.額定功率：15KW
5.;坩堝容量：100g～500g(熔液)
6.壓升率：≤2Pa/h
7.中頻電源：IGBT
二、真空碳管爐的結構說(shuō)明
本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、回轉機構、澆注裝置、真空系統及高頻電源控制系統等組成。
1、爐體：為全不銹鋼結構。爐殼采用雙層水冷結構，保證爐殼溫度不超過(guò)50℃。爐蓋打開(kāi)方式為手動(dòng)，并加有鎖緊裝置，爐蓋上設有觀(guān)察孔及屏蔽等。
2、回轉機構：與爐體用法蘭連接，感應線(xiàn)圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出，采用威爾遜密封，密封可靠。
3、澆注裝置：在坩堝旁邊從爐體內生一平臺，上面放置錠模，料熔煉好以后轉動(dòng)手柄，將坩堝內的料傾倒在錠模內。
4、真空系統：采用二級泵，油擴散泵(或分子泵)與直聯(lián)泵。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。
5、電源：電源采用IGBT進(jìn)口功率器件，更加集成化小型化，有效輸出功率達到90%以上，省電節能，比傳統可控硅中頻節能60%！，電氣系統設有過(guò)流、過(guò)壓返饋及保護電路。
