簡(jiǎn)要描述:爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐1、采用高純氬氣保護,熔煉溫度可達3500℃2、真空腔體小,可快速抽真空,快速充氬氣3、水冷銅電極可移動(dòng),可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5、采用真空計測量真空,壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛7、桌面式設計,占地空間小,特別節約實(shí)驗空間和能源
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
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應用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子,冶金,綜合 |
一、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設備用途 :
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設備主要技術(shù)參數:
1、型號: KDH-800
2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
3、真空系統配置:飛越VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴散泵、氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流:額定電流800a
6、熔煉坩堝 有三個(gè)工位:一個(gè)熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌,一個(gè)吸鑄工位30-100g 一個(gè)異型長(cháng)條工位
7、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 50-120克
8、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套
9、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧
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