爾莫新材料KDH-500小型真空電弧爐

一、爾莫新材料KDH-500小型真空電弧爐 設備用途 ：

用途廣泛：可用于超高溫金屬合金、高熵合金，稀貴金屬的冶煉制備，母合金的制備，也可用于光譜分析或合金研究的樣品制備：能夠快速獲得合適大小的均質(zhì)金屬塊，方便直讀光譜儀、X 射線(xiàn)熒光光譜儀的快速檢測，以達到事半功倍的效果。

也可用做快速熔樣：大部分難熔合金樣品的熔融時(shí)間為 50 ~ 60 秒，這樣的速度能盡量減

爾莫新材料KDH-500小型真空電弧爐優(yōu)點(diǎn)：

1、少樣品揮發(fā)：在高達 1980 攝氏度的熔化溫度下，樣品幾乎沒(méi)有燒損。例如，容易與氧元素結合的易燒損的硼元素在高溫合金的含量為 0.003%，經(jīng)過(guò)第三方測試結果表明，硼元素在用熔樣爐熔融時(shí)幾乎沒(méi)有損失。其他易燒損元素，如硅、錳、鈦、鋁、鎂、錸等都可以保護的很好。

2、帶電弧攪拌：強烈的電弧火花攪拌配合移動(dòng)操縱桿可獲得均質(zhì)效果，以消除樣品粒度和基體效應產(chǎn)生的影響。使熔制出的樣品均勻性很好，保證了測試結果代表性和準確性

3、快速水冷銅坩堝：銅坩堝四周循環(huán)水冷卻，樣品可輕易脫出，同時(shí)由于冷卻速度快，達到了快速急冷的效果，也就能滿(mǎn)足鑄鐵產(chǎn)品快速冷卻白口化的效果。同時(shí)無(wú)需脫模劑，且不會(huì )造成樣品與坩堝的交叉污染，可以直接熔化合金粉末樣品，避免了其它熔樣爐操作復雜以及鉑金坩堝被腐蝕的問(wèn)題

4、·氬氣保護（可結合抽真空：在高純的氬氣環(huán)境保護下熔樣，可避免表面氧化。滿(mǎn)足苛刻的科研要求，也可以不抽真空或改充二氧化碳保護氣，以模擬現場(chǎng)焊接狀態(tài)。

二、技術(shù)參數

3、真空系統配置：飛越VRD-24直聯(lián)泵、TK-150擴散泵、氣動(dòng)擋板閥和各種管路

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa，可配置低配真空系統或者其他高配真空系統

5、熔煉電流：額定電流500A

6、熔煉坩堝 有三個(gè)工位：一個(gè)熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌，一個(gè)吸鑄工位30-70g 一個(gè)異型長(cháng)條工位，冶煉工位可根據客戶(hù)需要定制

7、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 50-70克

8、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套

9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧