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簡(jiǎn)要描述：KDH-1000非自耗真空電弧爐熔煉爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。
更新時(shí)間：2024-05-09廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家訪(fǎng) 問(wèn) 量：851| 品牌 | 其他品牌 | 應用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子,冶金,綜合 |
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一、KDH-1000非自耗真空電弧爐熔煉爐設備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、真空電弧爐，非自耗電弧爐紐扣爐設備組成：
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。
三、KDH-1000非自耗真空電弧爐熔煉爐設備主要技術(shù)參數：
1、型號： KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統配置：VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴散泵、三臺氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、熔煉坩堝 ：多工位組合銅模，可根據客戶(hù)要求定做，配有電磁攪拌，非晶吸鑄工位等
7、熔煉合金工位： （其中兩個(gè)工位帶磁攪拌）一個(gè)吸鑄工位一個(gè)熔煉除氣工位
8、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 200克，可選擇20g 30g 80g 150g不同容量的電弧爐
9、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套
10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
一、設備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、真空電弧爐，非自耗電弧爐紐扣爐設備組成：
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。
三、設備主要技術(shù)參數：
1、型號： KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統配置：VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴散泵、三臺氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、熔煉坩堝 ：多工位組合銅模，可根據客戶(hù)要求定做，配有電磁攪拌，非晶吸鑄工位等
7、熔煉合金工位： （其中兩個(gè)工位帶磁攪拌）一個(gè)吸鑄工位一個(gè)熔煉除氣工位
8、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 200克，可選擇20g 30g 80g 150g不同容量的電弧爐
9、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套
10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
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