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真空電弧爐

簡(jiǎn)要描述:KDH-500真空電弧爐
1、采用高純氬氣保護,熔煉溫度可達3500℃2、真空腔體小,可快速抽真空,快速充氬氣3、水冷銅電極可移動(dòng),可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5、采用真空計測量真空,壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛7、桌面式設計,占地空間小,特別節約實(shí)驗空間和能源

  • 更新時(shí)間:2024-05-09
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:14074
品牌其他品牌產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域地礦,能源,電子,冶金,綜合

一、KDH-500真空電弧爐設備用途 :

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、KDH-500真空電弧爐設備組成:

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。

三、設備主要技術(shù)參數:

1、型號: KDH-500

2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室

3、具有熔煉與吸鑄功能,吸鑄模具與水冷模具套滑配,保證冷卻效果的同時(shí),拆卸方便

4、真空系統配置:飛越直聯(lián)泵、TK-150擴散泵、三臺氣動(dòng)擋板閥和各種管路

5、冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10E-3Pa

6、熔煉電流:額定電流≤500A

7、電弧熔煉水冷坩堝:五個(gè)工位;其中有一工位用于吸鑄,容重(樣品重量)5-100(克)/熔煉池,一個(gè)長(cháng)條工位容重(樣品重量)20~120(克;1~2個(gè)磁攪拌工位,攪拌可切換

8、攪拌方式:手動(dòng)懸臂翻料,有機械手翻轉組件;

9、電極桿和機械手均采用球密封機構,簡(jiǎn)便有效;電極桿電動(dòng)升降,操作便攜。

10·爐體側部開(kāi)門(mén),裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便,門(mén)上有操作觀(guān)察窗方便看清內部熔化情況。

11,真空系統獨立安裝,方便拆卸并便于和其他真空設備對接,一套多用。

12、工作氣體:Ar氣;

13、冷卻方式:水冷,水壓保護,含自動(dòng)報警;


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