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簡(jiǎn)要描述：KDH-500真空電弧爐1、采用高純氬氣保護，熔煉溫度可達3500℃2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣3、水冷銅電極可移動(dòng)，可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5、采用真空計測量真空，壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛7、桌面式設計，占地空間小，特別節約實(shí)驗空間和能源
更新時(shí)間：2024-05-09廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家訪(fǎng) 問(wèn) 量：1820| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子,冶金,綜合 |
KDH-500真空電弧爐
一、 KDH-500真空電弧爐設備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、設備組成：
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。
三、設備主要技術(shù)參數：
1、型號： KDH-500
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、具有熔煉與吸鑄功能，吸鑄模具與水冷模具套滑配，保證冷卻效果的同時(shí)，拆卸方便
4、真空系統配置：飛越直聯(lián)泵、分子泵泵、三臺氣動(dòng)擋板閥和各種管路
5、冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10E-4Pa
6、熔煉電流：額定電流≤500A
7、電弧熔煉水冷坩堝：五個(gè)工位；其中有一工位用于吸鑄，容重（樣品重量）5-80(克）/熔煉池，四個(gè)熔樣工位容重（樣品重量）50-100g(1~2個(gè)磁攪拌工位，攪拌可切換
8、攪拌方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機械手翻轉組件；
9、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡(jiǎn)便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜。
10·爐體側部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門(mén)上有操作觀(guān)察窗方便看清內部熔化情況。
11，真空系統獨立安裝，方便拆卸并便于和其他真空設備對接，一套多用。
12、工作氣體：Ar氣；
13、冷卻方式：水冷，水壓保護，含自動(dòng)報警；
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